Objectius de suport metàl·lic

• Objectiu de carboni 4N personalitzable

  Els nostres objectius de carboni 4N d'alta -puresa es fabriquen amb material de carboni pur al 99,99%, amb nivells baixos d'impureses i els fa ideals per a aplicacions en semiconductors,...

  Més
• Objectius personalitzats de pulverització de bor

  Oferim objectius de bor dens i d'alta-puresa perfectament adequats per a processos de semiconductors i recobriments. Donem suport a la fabricació personalitzada basada en dibuixos tècnics,...

  Més
• Objectiu rodó de tungstè personalitzat 3N5

  Oferim objectius circulars de tungstè fets a mida-con puresa 3N5 (99,95%). Fabricats amb pulvimetal·lúrgia, presenten una microestructura uniforme, alta densitat i estan lliures de porositat i...

  Més
• Objectiu personalitzat de pulverització HF d'alta puresa

  Oferim objectius-personalitzats d'alta-puresa de pulverització d'hafni amb una puresa superior al 99,9%, amb una densitat uniforme i una microestructura fina. Dissenyats específicament per a xips...

  Més
• Vareta d'hafni 3N5 personalitzada

  Barres d'hafni d'alta-puresa 3N5, puresa del 99,95%, qualitat-nuclear! Resistent a les temperatures ultra-altes i a la corrosió forta, la primera opció per a reactors nuclears, motors...

  Més
• Target de llauna 3N personalitzat

  L'objectiu de pulverització d'estany 3N d'alta -puresa + placa posterior de coure personalitzada duplica l'eficiència de la polsada. L'enllaç sense fissures evita el despreniment, donant lloc a...

  Més
• Objectiu d'hafni rectangular 3N5 personalitzable

  Objectiu d'hafni d'alta -puresa 3N5, puresa del 99,95%, dimensions rectangulars personalitzades exactes al micròmetre! La primera opció per al recobriment de semiconductors i el recobriment òptic,...

  Més
• 4N Mg Magnesi Sputtering Objectiu

  Els objectius de pols de magnesi 4N són materials de pols de metall d'alta-puresa amb una puresa superior o igual al 99,99%. Presenten grans fins i composició uniforme, cosa que els fa adequats...

  Més
• 99,95% Hf Objectiu de pulverització d'hafni

  Objectiu de polverització d'hafni d'alta -puresa del 99,95%, objectiu metàl·lic Hf de grau aeroespacial-, mida personalitzada, placa de suport de coure unida, utilitzat per a pel·lícules primes de...

  Més
• Objectiu de tub de zirconi

  Els objectius de tubs de zirconi són tubs de zirconi de-paret fines i d'alta-puresa que són resistents a la-corrosió i resistents a altes-temperatura, produint una pel·lícula densa i uniforme...

  Més
• Objectiu de pols de beril·li

  El beril·li és un metall de color gris acer que és bastant fràgil a temperatura ambient i les seves propietats químiques s'assemblen una mica a les de l'alumini.

  Més
• Objectiu de pols de crom (Cr).

  L'objectiu de pols de crom té les mateixes propietats que el crom metàl·lic (Cr), el crom és un element químic amb el símbol Cr i el número atòmic 24, és un metall de transició de color gris acer,...

  Més