Objectiu de níquel vanadi (NiV).

L'objectiu d'aliatge de níquel-vanadi d'alta puresa té una brillantor metàl·lica de color blanc platejat, densitat: 6,11 g/cm3, el punt de fusió és de 1910 graus, el punt d'ebullició és de 3407 graus. És un dels aliatges de pulverització de pel·lícula prima més importants en el camp dels semiconductors. Té les propietats químiques, elèctriques i òptiques necessàries per al Ni pur amb l'avantatge afegit de ser no ferromagnètic. A causa de les seves propietats no ferromagnètiques, és fàcil d'utilitzar en equips de polverització de magnetrons d'alta velocitat.

Mida: D152.4X6mm, es pot personalitzar a petició.

Forma: objectiu pla, objectiu giratori, personalització amb forma especial

Flux del procés Preparació del material - Fusió - Anàlisi química - Forja - Laminació - Recuit - Inspecció metal·logràfica - Mecanitzat - Inspecció dimensional - Neteja - Inspecció final - Embalatge

S'utilitza principalment en la polsatria reactiva de magnetrons per dipositar capes dielèctriques com ara SiO2 i SiN. Com a materials de pel·lícula prima funcionals importants, tenen una bona duresa, propietats òptiques, dielèctriques i resistència al desgast. La resistència a la corrosió dels objectius de silici té àmplies perspectives d'aplicació en els camps de l'òptica i la microelectrònica, i actualment s'utilitza àmpliament com a material funcional a tot el món. Actualment, els objectius de níquel vanadi s'utilitzen en la deposició de pel·lícules primes, decoració, semiconductors, pantalles, dispositius LED i fotovoltaics, recobriments funcionals i altres indústries espacials d'emmagatzematge d'informació òptica, indústries de recobriments de vidre com el vidre d'automoció i el vidre arquitectònic, comunicacions òptiques, etc.

Etiquetes populars: Objectiu de pulverització de níquel vanadi (niv), proveïdors d'objectius de pulverització de níquel vanadi (niv) de la Xina, fàbrica