Objectiu de pulverització de níquel (Ni).

L'objectiu de pulverització de níquel es compon de metall de níquel d'alta puresa. El níquel és un metall de color blanc platejat amb una lleugera tonalitat daurada que pren un poliment alt. És un dels quatre elements que són magnètics a temperatura ambient o prop, els altres són el ferro, el cobalt i el gadolini. La seva temperatura de Curie és de 355 graus (671 graus F), el que significa que el níquel a granel no és magnètic per sobre d'aquesta temperatura. La cel·la unitat de níquel és un cub centrat en les cares amb el paràmetre de gelosia de 0,352 nm, donant un radi atòmic de 0,124 nm. Aquesta estructura cristal·lina és estable a pressions d'almenys 70 GPa. El níquel pertany als metalls de transició. És dur, mal·leable i dúctil, i té una conductivitat elèctrica i tèrmica relativament alta per als metalls de transició. L'elevada resistència a la compressió de 34 GPa, prevista per als cristalls ideals, mai s'obté en el material a granel real a causa de la formació i el moviment de dislocacions; tanmateix, s'ha aconseguit en nanopartícules de Ni.

La puresa més alta de l'objectiu de sputtering de níquel és del 99,999%, normalment s'utilitza a les indústries de semiconductors i microelectrònica, l'objectiu de sputtering de níquel és el material clau per als elèctrodes posteriors de semiconductors. Després d'un processament de plàstic repetit, el nostre objectiu de níquel té una gran densitat, una gran puresa i una mida de gra uniforme.

Objectiu de pulverització de NiFe

Objectiu de pulverització de NiCu

Objectiu de pulverització de NiCr

Objectiu de pulverització de NiV

Objectiu de pulverització de NiTi

Objectiu de pulverització NiY

Etiquetes populars: objectiu de sputtering de níquel (ni), proveïdors d'objectius de sputtering de níquel (ni) de la Xina, fàbrica