Objectiu de sputtering de titani pur

Objectiu de sputtering de titani pur

L’objectiu de sputtering de titani pur està elaborat amb titani pur en puresa del 99,5% al ​​99.9999%. Actualment, per al 4- Megabit VLSI, la puresa de Titani és necessària per arribar al 4N5 (99.995%) ~ 5N (99,999%), mentre que el 16- Megabit de tercera generació VLSI requereix que la puresa del titani arribi al 6N (99,9999999999999).

També proporcionem l’objectiu metàl·lic i el material d’evaporació a l’alta puresa del 99.9999%, objectiu de metall preciós (AU, AG, PT), servei d’enllaç objectiu, revestiments de gresol (coure, molibdè, tungstè, etc.)

L’objectiu de sputtering de titani pur té una excel·lent resistència a la corrosió atmosfèrica i no canviarà el color després d’utilitzar-lo a llarg termini a l’atmosfera, garantint el color original del titani. Per tant, el titani d’alta puresa també es pot utilitzar com a materials de decoració d’edificis.

A més, en els darrers anys, algunes decoracions de gamma alta i alguns articles de desgast, com ara polseres, rellotges i marcs d’espectacles, estan fets de titani, que utilitzen les característiques de la resistència a la corrosió, la decoloració, el manteniment a llarg termini de la bona brillantor i la no sensibilització en contacte amb la pell humana. La puresa del titani que s’utilitza en algunes decoracions ha arribat al nivell 5N.

Especificació de l'objectiu de sputtering de titani pur

Imatge de l'objectiu de sputtering de titani pur

Etiquetes populars: Target de sputtering de titani pur, proveïdors objectiu de titani de titani de la Xina, fàbrica