Objectiu de Sputtering Tial

Objectiu de Sputtering Tial

La tecnologia Sputtering de Magnetron és una de les tecnologies clau per preparar materials de pel·lícula fina, i l’objectiu de sputtering metàl·lic és el material clau del procés de sputtering.

L’objectiu de l’esputja tial té les excel·lents característiques del titani metàl·lic i l’alumini metàl·lic, com ara alta ductilitat, alta resistència al desgast, excel·lent conductivitat elèctrica i tèrmica, microestructura òptima, bona durabilitat, rendiment de gravat i rendiment de processament bo, bon rendiment d’enllaç amb el substrat, etc.

L’objectiu de l’espoltació tial pot espoliar els recobriments de nitrur resistents a l’oxidació (TIALN) en exercicis, talladors, insercions de tall indexables i altres eines i millorar la velocitat d’alimentació, el rendiment de tall i la vida útil de les eines de processament.

Tial Sputtering Target també produeix capes adhesives i de captació en circuits integrats, recobriments decoratius per a dispositius electrònics (com ara marcs per a telèfons mòbils, pantalles de panells plans o rellotges de luxe) i recobriments de vidre per a la indústria de l’automoció.

Especificació de l'objectiu de sputtering tial

Faq:

Què és el MOQ?
R: Depèn de la quantitat, generalment, no hi ha cap límit MOQ.

Com pagar -ho?
R: Una transferència bancària (T\/T) serà acceptable.

Quin és el termini de lliurament?
A: Al voltant de 7-20 dies que depèn de la quantitat i la producció.

Què és el paquet?
R: funda de dibuixos animats o cas de fusta contraplacada.

Quin és el temps de conducció?
A: de l'ordre col·locat a la recepció de la càrrega es trigarà al voltant de 10-25 dies.

Quin és el mètode de lliurament?
R: Generalment, enviem càrrega per UPS, DHL o FedEx. A més, podem enviar per mar a Seaport o per aire a l’aeroport més proper.

Imatge de l'objectiu de Sputtering Tial

Etiquetes populars: Target de sputtering tial, proveïdors de destinació de la xina, fàbrica, fàbrica