Descripció dels productes
La implantació d'ions és una tecnologia molt important en la fabricació moderna d'IC, que utilitza implantadors d'ions per dopar semiconductors, és a dir, utilitzant cables de tungstè i tori com a càtodes per emetre electrons per bombardejar molècules de gas que contenen elements específics d'impureses, donant lloc a àtoms d'impureses específics ionitzats accelerats per electrostàtica. camps a la superfície de les hòsties de cristall únic de silici i al semiconductor, canviant les propietats conductores i, finalment, formant estructures de transistors. L'injector d'ions consta d'un sistema de gas, un sistema de buit, un sistema de motor, un sistema de control i un sistema de línia de llum.
El sistema de línia de llum inclou la font d'ions, elèctrode d'extracció, espectròmetre de masses, accelerador de fons, sistema de neutralització de càrrega, manipulador d'hòsties i bloquejador de feix. Els dispositius de tungstè fets de plaques de tungstè gruixudes (2 ~ 45 mm) s'utilitzen principalment en el sistema de font d'ions d'implantadors d'ions semiconductors per limitar i protegir els raigs ionitzants, i són els components clau del sistema de font d'ions.
Característiques
La puresa de la guia d'ones de molibdè és superior al 99,95%;
La seva densitat és superior a 10,2 g/cm³;
Mecanitzat amb precisió i amb una excel·lent rugositat superficial;
La guia d'ona de molibdè té una forta resistència al desgast.
Indústria d'aplicacions
Indústria de materials semiconductors
Indústria del transport marítim
Indústria òptica i optoelectrònica
Indústria aeroespacial
Etiquetes populars: peces de tungstè i molibdè per a indústries de semiconductors, peces de tungstè i molibdè de la Xina per a proveïdors d'indústries de semiconductors, fàbrica
