Descripció dels productes
El zirconi (Zr) és un metall de plata amb una densitat de 6,52 g/cm³. Zr té una petita secció transversal d'absorció de neutrons i un punt de fusió relativament alt (1855 graus o 3371 graus F), fent que el zirconi sigui un material excel·lent per a barres d'energia nuclear. L'esponja de zirconi i les barres de cristall són les matèries primeres per fer objectius de pulverització. Tot i que l'esponja Zr és barata i té poca puresa, conté un alt contingut d'oxigen. Les barres de cristall de zirconi tenen un cost i puresa més elevats, la qual cosa les converteix en materials ideals per a la catòdicació d'objectius.
La deposició de pel·lícula prima (recobriment) és el procés de formació i dipòsit de recobriments de pel·lícula prima sobre materials del substrat que es poden utilitzar per canviar o millorar determinats elements de les propietats del substrat. És un pas important de fabricació en la producció de molts dispositius i productes optoelectrònics, d'estat sòlid i mèdics. L'objectiu de pulverització de zirconi és l'objectiu més utilitzat en el procés de recobriment. Pot recobrir el substrat amb un recobriment resistent al desgast, un recobriment reflectant, un recobriment conductor, un recobriment resistent a la corrosió o un recobriment decoratiu. Com més gran sigui la puresa del material, major serà l'adhesió, la resistència al desgast i la vida útil del recobriment, i més fort serà l'efecte protector del producte. Zirconi Sputtering Target té els avantatges de baixa densitat, alta resistència específica, resistència a la corrosió, resistència a alta temperatura, resistència al desgast, excel·lent rendiment de processament, no tòxic, no magnètic, petita secció transversal d'absorció de neutrons tèrmics, llarga vida útil, etc. , i es pot utilitzar àmpliament Adequat per al processament de recobriments de productes electrònics, làsers de fibra, pantalles LED, microscopis, làsers de semiconductors i altres instruments de precisió. Si cal, no dubti en contactar amb nosaltres per correu electrònic.
Tant Zr com Hf es poden aplicar a les indústries nuclears. No obstant això, tenen propietats diferents en la captura de neutrons. Tot i que tenen moltes propietats similars, s'han de separar mitjançant el mètode d'extracció líquida o destil·lació de sal fosa. Oferim dos graus d'objectius de zirconi d'alta puresa: hafni baix (250ppm, o 0,025%) i hafni alt.
Propietats de l'objectiu de pulverització de zirconi
|
Material |
Barra de cristall Zr |
|
Puresa |
99.95% |
|
Número CAS |
7440-67-7 |
|
Color |
Plata |
|
Forma |
Diàmetre: 20 ~ 40 mm |
Especificacions de l'objectiu de pulverització de zirconi
|
B |
0.07 |
Ti |
36 |
Mo |
3.7 |
|
F |
1.7 |
V |
0.13 |
Rh |
<0.5 |
|
Na |
0.3 |
Cr |
3.4 |
Pd |
<5 |
|
Mg |
0.09 |
Mn |
0.2 |
En |
<0.05 |
|
Al |
48 |
Fe |
51 |
Sn |
16 |
|
Si |
35 |
Co |
0.032 |
Sb |
<0.5 |
|
P |
0.35 |
Ni |
3.3 |
Te |
<0.5 |
|
S |
16 |
Cu |
0.16 |
I |
<0.5 |
|
Cl |
1.6 |
Zn |
0.28 |
La |
<0.013 |
|
K |
0.25 |
Br |
0.039 |
Ce |
0.021 |
|
Ca |
0.33 |
Sr |
0.009 |
Pr |
0.036 |
|
Sc |
0.6 |
Nb |
1.7 |
Nd |
<0.05 |
|
Ga |
0.1 |
Ge |
<0.05 |
Sm |
<0.05 |
|
Com |
<0.05 |
Se |
<0.05 |
Ta |
0.66 |
|
W |
1.3 |
Re |
<0.05 |
Os |
<0.05 |
|
Ir |
<0.05 |
Pt |
<0.05 |
Au |
<0.05 |
|
Pb |
0.96 |
Bi |
0.28 |
U |
1.1 |
* El contingut de C, N i O no està disponible
* Les concentracions d'altres elements metàl·lics són massa baixes per determinar-les.
paquet
Els nostres objectius de pulverització de zirconi es manipulen amb cura per evitar danys durant l'emmagatzematge i el transport i preservar la qualitat dels nostres productes en el seu estat original.
Etiquetes populars: objectiu de zirconi, proveïdors d'objectius de zirconi de la Xina, fàbrica
